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    江苏 苏州 相城区聚金路98号阳澄湖节能环保产业园910室

超纯水设备的主要特点:

1.产水水质高而具有较佳的稳定度高

2.连续不间断制水,超纯水系统,不因再生而停机。

3.模块化生产,并可实现全自动控制。

4.不须酸碱再生,辽源超纯水,无污水排放。

5.无酸碱再生设备和化学药品储运。

6.设备结构紧凑,占地面积小。

7.运行费用及维修成本低。

8.运行操作简单,超纯水设备代加工,劳动强度低

超纯水设备基本参数

1、给水:RO纯水,一般水的电导率为4-30us/cm。

2、PH:5.0-8.0(在此PH条件下,水硬度不能太高)

3、温度:5-35℃

4、进水压力:较大为4kg/cm2(60psi),较小为1.5kg/cm2(25psi)。


EDI装置将离子交换树脂充夹在阴/阳离子交换膜之间形成EDI单元。EDI工作原理如图所示。 EDI组件中将一定数量的EDI单元间用网状物隔开,形成浓水室。又在单元组两端设置阴/阳电极。在直流电的推动下,超纯水装置,通过淡水室水流中的阴阳离子分别穿过阴阳离子交换膜进入到浓水室而在淡水室中去除。而通过浓水室的水将离子带出系统,成为浓水. EDI设备一般以反渗透(RO)纯水作为EDI给水。RO纯水电导率一般是40-2μS/cm(25℃)。EDI纯水电阻率可以高达18 MΩ.cm(25℃),但是根据去离子水用途和系统配置设置,EDI纯水适用于制备电阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的纯水。


超纯水可以在以下领域使用 :

(1)电子、电力、电镀、照明电器、实验室、食品、造纸、日化、建材、造漆、蓄电池、化验、生物、制药、石油、化工、钢铁、玻璃等领域。

(2)化工工艺用水、化学药剂、化妆品等。

(3)单晶硅、半导体晶片切割制造、半导体芯片、半导体封装 、引线柜架、集成电路、液晶显示器、导电玻璃、显像管、线路板、光通信、电脑元件 、电容器洁净产品及各种元器件等生产工艺。

(4)高压变电器的清洗等.


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